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更新时间:2025-12-03

四合院我一心科研重工强国第641章 保密通信计算机

集成电路的研究也并没有出现太大问题。

毕竟已经有了规划按照规划往下走一步步进行研究就可以只不过光刻机的研究并不是那么顺利。

光刻机的研究已经定下了基调。

要研究接触式光刻机除了触式光刻机外在这年代还有接近式光刻机。

接触式光刻机它的优点就是结构相对简单成本较低并且因为掩模版和硅片紧密接触所以光的衍射效应较小这样就能得到相对较高的分辨率。

但也有缺点。

那就是掩模版与硅片表面的光刻胶会有直接接触所以这就容易导致相互污染和磨损让掩模版使用寿命大幅减少必须要频繁更换。

接近式光刻机就不一样了。

它的研究出来的原因就是因为解决接触式光刻机掩模版易损坏的问题所以才有了接近式光刻机。

这样就能够提高掩模版的使用寿命以及良品率。

但也有缺点那就是容易导致系统的分辨率下降不如接近式光刻机接触式光刻机。

可以说这两种光刻机都是这个年代的主流不过相比起来还是接触式光刻机更容易制造。

虽然接近式光刻机与硅片表只有2.5-25微米的距离但就是这么微小的距离增加了机器制造的难度。

而像是后世的投影式光刻机、扫描投影式光刻机、步进重复式光刻机、步进扫描式光刻机 、浸没式光刻机、极紫外光刻机。

这些虽然更好用但在这年代根本就制造不出来。

先不说后面几款光刻机就算是投影式光刻机、扫描投影式光刻机这两款计算机都要等到70年代初才会被研究出来。

并且研究出来的难度比起接触式光刻机难度不止增加了一倍。

李枭也不奢望其它能在1970年代以前研究出投影式光刻机就可以这也就意味着追上了国际水平不至于被落下。

“小枭你什么时候回来的?”看到李枭罗教授很高兴道。

“昨天刚到罗教授光刻机研究的怎么样了?”在罗教授的办公室中坐下后李枭问道。

“不太理想中间遇上了问题一直没找到解决的办法。

”提到正事罗教授也是皱起眉道。

闻言李枭心里也跟着沉了沉能让罗教授这般犯难的绝不是小麻烦也就道:“都有什么问题?”。

“那问题就太多了我都有些头痛。

”罗教授叹了口气伸手从抽屉里拿出两片透明的石英掩模递给了李枭。

李枭接过去看了看就看到上面那许多细密的划痕罗教授也是这个时候开口道:“你先看看这个这是上周刚做的掩模才用了三次表面就划成这样现在用的掩模基板太薄压的时候只要稍微没控制好要么掩模裂了要么晶圆表面被刮出印子后续刻蚀出来的电路全是断口良率连三成也达不到。

”。

“有没有换厚一点的试试。

”李枭也是看着石英掩模想了想道。

“试过了基板加厚到2.5毫米压力调到最低但这样一来掩模和晶圆贴不紧中间容易留气泡曝光的时候气泡处的图形就会变形线宽偏差能到2微米差的太多根本就没办法用。

”。

说完罗教授又叹了口气道:“这还只是第一个问题还有就是对准的事儿这更让人闹心我们只能靠人眼通过显微镜手动对准但没有人能够一天全部精神力集中 稍一分心套刻精度增大有的偏差直接能飙到3微米这也没有办法人的精力有限不可能每时每刻都保证高精度操作。

而最让人头痛的还是咱们的环境问题不要说外面就说实验室内现在我们都无法保证千级洁净空气中的灰尘落到掩模上曝光后就是一个个黑点有时候一批晶圆里一半都因为灰尘报废了 我们也想过办法想着在操作台上加了个简易防尘罩但结果通风光刻胶固化速度变慢曝光时间得延长两倍效率低得吓人。

”。

听着罗教授讲的这些这一讲就是八九个问题李枭也是皱起了眉这些问题之前他也查过但很多都没有太好的解决办法。

像是环境控制的问题接触式光刻机要求的环境在这个年代来讲是比较苛刻的。

因为光刻的过程对于振动、温度波动甚至空气洁净度都非常敏感这也是为什么要求在千级洁净的环境中制造。

但要知道想要达到千级洁净可没那么简单所谓的千级洁净要求的是每立方米直径≥0.5 μm 的悬浮颗粒不超过约35200个。

这就需要通过控制空气中微粒、温度、湿度、压力等参数来满足特定洁净需求。

而这种技术国内现在根本就制造不出来至少也要等到几年后才建立起千级洁净室来进行军工、电子等的研究。

这个目前来讲没有太好的解决办法只能够尽力去克服。

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